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碳納米管漿料分散機
詳細信息| 詢價留言型號:CMSD2000 品牌:IKN 工作方式:顆粒研磨機 適用物料:碳納米管漿料 應用領域:化工 加工批量:1000 驅動功率:30 kw 研磨籃容量:1000 介質尺寸:100 行程:10 外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 驅動方式:電動 作用對象:鋸刀 重量:400 kg
碳納米管漿料碳納米管水性漿料碳納米管NMP漿料 的分散要素
研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒完全被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。
研磨:利用剪切力、摩擦力或沖擊力(將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒完全被分離、潤濕,分布均勻及穩(wěn)定目的。碳納米管應用于導電涂料、導電油墨、導電膠、鋰離子電池電極材料及其它復合物中,開發(fā)了高碳納米管含量、高流動性的碳納米管漿料,是經濟型的分散產品
碳納米管漿料由多壁碳納米管、碳納米管分散劑、液體介質等三種成分組成,經過特定的機械研磨設備和分散工藝,規(guī);厣a。
我們供貨的漿料,是以工業(yè)級多壁碳納米管TNIM8為原料,液體介質包括:水、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、異丙醇(IPA)、乙酸丁酯.
一、碳納米管分散技術三要素
二、分散劑用量推薦
三、碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述
四、超聲波分散設備使用建議及分散實例
五、研磨分散設備使用建議
碳納米管分散技術三要素:分散介質、分散劑和分散設備
1、分散介質
(1)根據(jù)粘度不同,分散介質分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質中,如水和有機溶劑,碳納米管易于分散。中粘度介質如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質如熔融態(tài)的塑料
(2)本PPT文件介紹的碳納米管分散技術,針對中、低粘度分散介質
2、分散劑
(1)分散劑的選擇,與分散介質的結構、極性、溶度參數(shù)等密切相關
(2)分散劑的用量,與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關
(3)水性介質中,推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠,推薦使用TNEDIS
3、分散設備
(1)超聲波分散設備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質分散碳納米管,用于中、高粘度介質時會受到限制
(2)研磨分散設備:適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質分散碳納米管
(3)采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法,可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管
分散劑用量推薦
1、碳納米管比表面積與分散劑用量
我們試劑級碳納米管分為單壁管(外徑<2nm)和多壁管。多壁管根據(jù)外徑不同,分為TNM1(外徑<8nm)、 TNM2 (外徑8-15nm)、 TNM3 (外徑10-20nm)、 TNM5 (外徑20-30nm)、 TNM7 (外徑30-50nm)、 TNM8 (外徑>50nm)。隨著外徑的增加,碳納米管的比表面積減小
TNWDIS推薦用量:單壁管重量的3.5倍, TNM1 重量的1.0倍, TNM8 重量的0.2倍。其余用量參考調整
2、碳納米管功能化與分散劑用量
功能化后的碳納米管,更容易在水中分散。 通常,碳納米管羧基功能化后,分散劑的用量可以減少50%
TNWDIS推薦用量:羧基化單壁管重量的1.5-1.8倍, 羧基化TNM1 重量的0.5倍, 羧基化TNM8 重量的0.1倍
3、對于TNADIS, TNM8 的推薦用量是重量的0.2倍。對于TNEDIS, TNM8 的推薦用量是重量的1.2倍
其余碳納米管分散劑用量可以參照調整
碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述
1、不含烷基酚聚氧乙烯醚 (APEO)的非離子表面活性劑,生態(tài)環(huán)保。歐洲國家自1976年起陸續(xù)制定了法規(guī)限制生產和使用APEO
2、含有芳香基團,特別適合制備碳納米管水分散液。芳香基團與碳納米管管壁親和性好,易于吸附在管壁
3、性能指標
活性物質含量:90%
水 分 含 量:10%
濁 點:68-70℃
是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
研磨分散機應用領域:
化學工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,石墨烯,碳納米管,富勒烯,凝膠,溶膠,壓裂液 催化劑 纖維 等。
食品工業(yè):蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬,蛋黃醬,沙拉醬,奶酪 食用菌絲,大豆蛋白粉 豆粕等日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
醫(yī)藥工業(yè):各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮,膠囊,微球,口服混懸液,動物組織破壁,纖維素 等。
建筑工業(yè):各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工業(yè):塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質環(huán)保的生產需要 。新能源材料:石墨烯、石墨烯涂料、石墨烯超級電容、石墨烯潤滑油、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等
設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMD 2000/4
300
9,000
23
2.2
DN25/DN15
CMD 2000/5
3000
6,000
23
7.5
DN40/DN32
CMD 2000/10
8000
4,200
23
22
DN80/DN65
CMD 2000/20
20000
2,850
23
37
DN80/DN65
CMD 2000/30
40000
1,420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
80000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到*大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。
碳納米管漿料分散機 碳納米管水性漿料分散機碳納米管NMP漿料 分散機
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準。 -
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