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    5%碳納米管NMP漿料研磨分散機(jī)

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥298567.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細(xì)信息
     型號:CMSD2000  品牌:IKN  工作方式:顆粒研磨機(jī)  
     適用物料:碳納米管  應(yīng)用領(lǐng)域:化工  加工批量:1000  
     驅(qū)動功率:30 kw 研磨籃容量:1000  介質(zhì)尺寸:10  
     行程:10  外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 
     驅(qū)動方式:電動  作用對象:鋸刀  重量:400 kg 

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    是是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及研磨的效果。

    碳納米管NMP漿料 

    碳納米管作為一維納米材料,重量輕,六邊形結(jié)構(gòu)連接完美,具有許多異常的力學(xué)、電學(xué)和化學(xué)性能。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應(yīng)用前景也不斷地展現(xiàn)出來。

    碳納米管,又名巴基管,是一種具有特殊結(jié)構(gòu)(徑向尺寸為納米量級,軸向尺寸為微米量級,管子兩端基本上都封口)的一維量子材料。碳納米管主要由呈六邊形排列的碳原子構(gòu)成數(shù)層到數(shù)十層的同軸圓管。層與層之間保持固定的距離,約0.34nm,直徑一般為2~20 nm。并且根據(jù)碳六邊形沿軸向的不同取向可以將其分成鋸齒形、扶手椅型和螺旋型三種。其中螺旋型的碳納米管具有手性,而鋸齒形和扶手椅型碳納米管沒有手性。

    一、碳納米管分散技術(shù)三要素

    二、分散劑用量推薦

    三、碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述

    四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實(shí)例

    五、研磨分散設(shè)備使用建議

    碳納米管分散技術(shù)三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備

    1、分散介質(zhì)

    (1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機(jī)溶劑,碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

    (2)此處介紹的碳納米管分散技術(shù),針對中、低粘度分散介質(zhì)。

    2、分散劑

    (1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

    (2)分散劑的用量,與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。

    (3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。中等極性有機(jī)溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠,推薦使用TNEDIS 。

    3、分散設(shè)備

    (1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實(shí)驗(yàn)室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管,用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制。

    (2)研磨分散設(shè)備:適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管。

    (3)采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法,可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管

    分散劑用量推薦。

    1、碳納米管比表面積與分散劑用量

    我們試劑級碳納米管分為單壁管(外徑<2nm)和多壁管。多壁管根據(jù)外徑不同,分為TNM1(外徑50nm)。隨著外徑的增加,碳納米管的比表面積減小

    TNWDIS推薦用量:單壁管重量的3.5倍, TNM1 重量的1.0倍, TNM8 重量的0.2倍。其余用量參考調(diào)整

    2、碳納米管功能化與分散劑用量

    功能化后的碳納米管,更容易在水中分散。 通常,碳納米管羧基功能化后,分散劑的用量可以減少50%

    TNWDIS推薦用量:羧基化單壁管重量的1.5-1.8倍, 羧基化TNM1 重量的0.5倍, 羧基化TNM8 重量的0.1倍

    3、對于TNADIS, TNM8 的推薦用量是重量的0.2倍。對于TNEDIS, TNM8 的推薦用量是重量的0.8倍

     

    5%碳納米管NMP漿料研磨分散機(jī)

    在做納米粉體分散或研磨時,因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運(yùn)動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
        

    研磨機(jī) 和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 

        *級由具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

        第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國先進(jìn)的高速研磨分散技術(shù),通過超高
    轉(zhuǎn)速(*高可達(dá)14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

    技術(shù)及價格咨詢請來電:  ,公司有樣機(jī)可供客戶實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!我司有著豐富的石墨烯研磨經(jīng)驗(yàn),跟常州、無錫、長春、寧波、濰坊、深圳、廈門、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。歡迎您的來電!

     

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