研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒完全被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

插層石墨

石墨是一種典型的二維層狀無機(jī)高分子材料，其層與層之間僅依靠的范德華力結(jié)合，碳層之間的結(jié)合力弱，間距較大，導(dǎo)致多種化學(xué)物質(zhì)（原子、分子、離子和離子團(tuán)）可以插入層間空隙，形成石墨插層化合物（Graphite Intercalation Compound, GICs）。

石墨插層化合物（GICs）是一種利用物理或化學(xué)的方法使非碳質(zhì)反應(yīng)物插入石墨層間，與碳素的六角網(wǎng)絡(luò)平面結(jié)合的同時(shí)又保持了石墨層狀結(jié)構(gòu)的晶體化合物。石墨插層化合物不僅保留了石墨原有的理化性質(zhì)，而且由于插入物質(zhì)與碳層之間的相互作用而呈現(xiàn)出石墨與插層物質(zhì)均不具備的一些新的特性如高電導(dǎo)性、同位素分離效應(yīng)、催化效應(yīng)、密封效應(yīng)等，特別是某些石墨插層材料還出現(xiàn)了超導(dǎo)性能，因此受到物理學(xué)家、化學(xué)學(xué)家和材料學(xué)家的重視，隨之各個(gè)國(guó)家都投入了大量的人力和物力進(jìn)行研究。在1999年時(shí)，全世界就已成功合成出了400多種石墨層間化合物及其衍生物到十二年后的今天，石墨插層化合物的種類更為豐富，應(yīng)用也更為廣泛，它作為導(dǎo)電材料、電池材料、有機(jī)化學(xué)反應(yīng)的試劑和催化劑及密封材料和儲(chǔ)氫材料等都正在或者將會(huì)起到很大的作用

插層石墨研磨分散機(jī)  

有可能你會(huì)問  一般國(guó)內(nèi)做碳管或者石墨烯會(huì)用砂磨機(jī)或者球磨機(jī)   超聲波分散機(jī)等等？  球磨機(jī)或者砂磨機(jī)他們偏重研磨炸   會(huì)破壞他們的內(nèi)部結(jié)構(gòu) 。 我們的研磨分散機(jī)偏重  分散剝離  。超聲波不適合工業(yè)化生產(chǎn)，只是作為一種輔助分散。

研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒完全被分離（separating）、潤(rùn)濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

在做納米粉體分散或研磨時(shí)，因?yàn)榉垠w尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運(yùn)動(dòng)現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心�機(jī)來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運(yùn)動(dòng)影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級(jí)粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
    

    納米研磨分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    *級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 

IKN石墨烯研磨設(shè)備采用德國(guó)先進(jìn)的高速研磨分散技術(shù)，通過超高
轉(zhuǎn)速（*高可達(dá)14000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配CM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

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