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    納米碳酸鈣高剪切研磨分散機

    產(chǎn)品型號: CMSD2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細信息
     型號:CMSD2000  品牌:IKN  工作方式:顆粒研磨機  
     適用物料:納米碳酸鈣  應用領域:化工  加工批量:1000  
     驅(qū)動功率:30 kw 研磨籃容量:1000  介質(zhì)尺寸:10  
     行程:10  外形尺寸:1-1-1 m 重量:400 kg 
     驅(qū)動方式:電動  作用對象:鋸刀  重量:400 kg 
    納米碳酸鈣高剪切研磨分散機,納米碳酸鈣分散機,

    散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

     

    上海依肯機械設備有限公司  鐘英 QQ---

     

    1.納米碳酸鈣又稱超微細碳酸鈣。標準的名稱即超細碳酸鈣。納米碳酸鈣應用*成熟的行業(yè)是塑料工業(yè)主要應用于高檔塑料制品?筛纳扑芰夏噶系牧髯冃,提高其成型性。用作塑料填料具有增韌補強的作用,提高塑料的彎曲強度和彎曲彈性模量,熱變形溫度和尺寸穩(wěn)定性,同時還賦予塑料滯熱性。納米碳酸鈣用于油墨產(chǎn)品中體現(xiàn)出了優(yōu)異的分散性和透明性和極好的光澤、及優(yōu)異的油墨吸收性和高干燥性。納米碳酸鈣在樹脂型油墨中作油墨填料,具有穩(wěn)定性好,光澤度高,不影響印刷油墨的干燥性能.適應性強等優(yōu)點。

     

    2.納米粉體的團聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個顆粒形成較大的顆粒團簇的現(xiàn)象。由于團聚顆粒粒度小,表面原子比例大,比表面積大,表面能大,處于能量不穩(wěn)定狀態(tài),因而細微的顆粒都趨向于聚集在一起,很容易團聚,形成團聚狀的二次顆粒,乃至三次顆粒,使粒子粒徑變大,在每個顆粒內(nèi)部有細小孔隙。

     

    3.納米顆粒的團聚一般分為兩種:軟團聚和硬團聚。對于軟團聚機理,人們的看法比較一致,即,軟團聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致,由于作用力較弱,可以通過一些化學作用或施加機械能的方式來消除。 

    納米碳酸鈣研磨分散機,納米碳酸鈣分散機,納米碳酸鈣分散機是化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 

     

    4.研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

     

    5.CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

    6.設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
    電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
    電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
    進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

     

    納米碳酸鈣高剪切研磨分散機

    7.研磨分散機型號表:

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    18

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%。

    1) 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

    2) 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。

    3) 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。

    4) 本表的數(shù)據(jù)因技術改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準。

     

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    上海依肯機械設備有限公司 

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