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ITO納米高速分散機
產品型號: |
ERS2000 |
品 牌: |
IKN |
|
所 在 地: |
上海松江區(qū) |
更新日期: |
2024-12-16 |
| 品牌:IKN | | 類型:剪切分散機 | | 物料類型:固-液 | |
| 適用物料:化學品 | | 應用領域:化工 | | 型號:ERS2000 | |
| 速度類別:有級變速 | | 調速范圍:15000 r/min | | 分散輪直徑:115 mm | |
| 升降行程:100 mm | | 電機功率:15 Kw | | 變速方式:變速帶變速 | |
| 罐容量:3000 L | | 外形尺寸:1-1-1 mm | | 整機重量:400 kg | |
ITO納米高速分散機 ,ITO納米分散機,氧化銦納米分散機 氧化錫納米分散機是的高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是*重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,依肯公司在ER2000系列的基礎上又開發(fā)出ERS3000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經分布更窄。由于能量密度極高,無需其他輔助分散設備。
ITO粉末為氧化銦和氧化錫的混合物,是一種新型的特殊功能陶瓷材料,通常是用電子束蒸發(fā)、物理氣相沉積、或者一些濺射沉積技術的方法沉積到表面,具有對可見光透明和導電的良好特性。
在分散或研磨納米粉體的漿料時,若不添加適當?shù)谋砻娓馁|劑,單靠研磨機的機械力量來做分散研磨,一般只能分散研磨到300 ~ 800 nm就無法再降低粒徑了,其原因是當粒徑小于300 nm時,粉體的比表面積急速上升且范德華力效應加劇,此時粉體處于非常不穩(wěn)定且容易再凝聚的狀態(tài),即使聚集的粉體被磨球打開來了,也容易再凝聚,除非添加適當?shù)谋砻娓馁|劑,才可能繼續(xù)把粒徑下降到一次粒徑的大小。
◆化學界面改質劑的設計
一般處理漿料表面的方法,由復雜交互的作用力,如靜電排斥力、立體排斥力及體積排除作用力等力形成固體或液體表面的穩(wěn)定狀態(tài),其目的不外乎是避免粉體再凝聚的產生,其中*簡單的方法是調整PH值,使納米粉體表面帶電荷,粉體與粉體間產生排斥力,然而,納米粉體因受限于*終產品應用及配方的限制,適用此方法的應用并不多;第二種常用的方法是依靠立體排斥作用力形成固體與固體,固體與液體間的穩(wěn)定狀態(tài),此方法*常選用高分子量的高分子或單體作分散劑,當漿料的粒徑要求為微米或亞納米時,此方法效果相當好;但是分散或研磨漿料的粒徑要求小于100 nm時,如果仍選用高分子量的高分子或單體作為分散劑,當粉體被納米化時,漿料內的大部分體積已被高分子量的高分子或單體所形成的障礙物所占據(jù),此時漿料容易遇到下列的問題:
● 固成分大幅降低,一般為35 % wt以下。
● 漿料的粘度因而提高,不利于研磨機內小磨球的運動,導致*后的粒徑細度降不下來。
● 粉體容易產生再凝聚的現(xiàn)象,導致納米現(xiàn)象無法產生,為了避免上述問題的產生,本文所介紹的化學機械工藝法,將選用較低分子量的功能劑來當表面改質劑。根據(jù)溶液化學的概念,較小分子量的化學鍵所形成的功能劑,會比較容易被接到納米粉體的表面上,(如圖4范例所示),所選用的界面改質劑是低分子量的,且包含有機酸官能團。
原則上,所選用的界面改質劑同時具有兩個官能團:一個官能團被設計接到納米粉體表面,使納米粉體表面產生一個穩(wěn)定相,以避免粉體再凝聚的產生;另一個官能團的設計,要根據(jù)納米粉體所添加的界面(Matrix)而定,以避免不兼容現(xiàn)象的發(fā)生。因為界面改質工藝所采用的工具為濕法分散納米研磨設備,所以選用的界面改質劑必須能夠與使用的溶劑兼容。盡管所選用的界面改質劑的分子量很小,但仍可在納米粒子表面產生2 ~ 5 nm厚度的薄膜,足夠產生一個立體障礙并支撐納米粒子的穩(wěn)定性,相信根據(jù)這些原理量身打造的界面改質劑,可以滿足下列要求:
● 固體成分可以大大提高到35 ~ 45%以上。
● 粒徑可以降到粉體一次粒徑大。ɡ10 nm左右)。
● 漿料的粘滯性不再受粒子粒徑下降的影響而急速上升。
● 粉體將不易產生再凝聚現(xiàn)象,即使添加到后段工藝仍為納米粒子。
ITO納米高速分散機 ,ITO納米分散機,氧化銦納米分散機 氧化錫納米分散機
KN管線式高剪切乳化機(分散機、均質機)與臥式乳化機比較:
轉速和剪切力:
國內乳化機,3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉速決定轉子轉速
線速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高剪切乳化機,9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是乳化和均質的重要因素,相當于后者是前者的4-5倍
設備設計構造:
國內乳化機,臥室直聯(lián)結構,運行時間長,容易造成軸的偏心,運轉不正常,需要*的人員拆開內部結構更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN高剪切乳化機,立式分體結構,運行時間長,不易造成軸的偏心,容易更換,而且只要更換相應的皮帶,一般的人員可以操作。
密封:
國內乳化機,填料密封或骨架密封,單機械密封或軸封,泄漏故障率高,產品泄漏進入馬達,造成馬達燒毀
IKN高剪切乳化機,雙機械密封,易于清洗,將泄漏降至*低,可24小時不停運轉,特殊德國PDFE軸封,可以運行10000小時,可選擇德國高品質機械密封,在一般的情況下,我們的機械密封可以*大承受16bar 壓力,根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達到12-13 bar .
產品效果:
國內乳化機,粒徑細度有限,10微米以下較困難,重復性差,產品粒徑分布不均勻
IKN高剪切乳化機,可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級分散乳化
當用我們的設備好處是什么?效果好(研磨效果、均質效果、分散效果、乳化效果……),速度快,效率高。每一臺設備都具有多功能改裝,根據(jù)不同的要求更換不同的模塊。還有什么???那就是能耗低,據(jù)用過依肯的設備客戶反應,就電費就能省下不少。如何去選擇一臺合適的設備,一定會做一個明智的選擇!
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