国产一级毛一级免费着看,国产一级婬片A视频免费观看

當前位置：上海依肯機械設(shè)備有限公司 > 產(chǎn)品中心 > 研磨機 > 納米研磨機,納米研磨設(shè)備

納米研磨機,納米研磨設(shè)備

產(chǎn)品型號：

CMSD2000

品牌：

IKN

≧1 臺
￥198567.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-12-16

詳細信息

| 詢價留言

型號：CMSD2000	品牌：IKN	工作方式：顆粒研磨機
適用物料：化工,醫(yī)藥	應(yīng)用領(lǐng)域：化工	加工批量：1000
驅(qū)動功率：30 kw	研磨籃容量：1000	介質(zhì)尺寸：100
行程：10	外形尺寸：1-1-1 m	重量：400 kg
驅(qū)動方式：電動	作用對象：鋸刀	重量：400 kg

納米研磨機，,納米研磨設(shè)備,超高速研磨機,納米材料研磨設(shè)備,IKN研磨機 CMD2000納米研磨機是

14000轉(zhuǎn)研磨機是是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

納米研磨機的

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

研磨分散機應(yīng)用領(lǐng)域：

化學(xué)工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,,炭黑，石墨烯，碳納米管，富勒烯，凝膠，溶膠，壓裂液催化劑纖維等。
食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、芝麻、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，蛋黃醬，沙拉醬，奶酪食用菌絲，大豆豆粕等

日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。
醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，膠囊，微球，口服混懸液，動物組織破壁，纖維素等。
建筑工業(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工業(yè)：塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)優(yōu)質(zhì)環(huán)保的生產(chǎn)需要。

新能源材料：石墨烯、石墨烯涂料、石墨烯超級電容、石墨烯潤滑油、碳納米管、碳纖維、鋰電池漿料、電池隔膜潤滑油等等

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	120000	1,100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

納米研磨機的眼膜效果

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率（越大，效果越好）

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4 物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

研磨時間對粉體產(chǎn)品細度的影響一般而言，研磨時間越長，則研磨效果越好，
但顆粒的細化達到一定程度則很難再進一步細化。因為隨著顆粒粒度的減小，比表面積迅速增大，顆粒表面激活點增多，表面自由能增大，體系處于極不穩(wěn)定狀態(tài)，微細顆粒間則彼此團聚形成“假顆粒”，以降低比表面積；若再延長研磨時間，輸入體系的能量則用于粉碎“假顆粒”，“假顆粒”粉碎后又很快重新團聚，整個體系處于團聚—磨細的動態(tài)平衡中，從而大大降低了研磨能力和效率。

分散劑對粉體產(chǎn)品細度的影響
在超細研磨過程中，一方面物料顆粒接受施能被粉碎，另一方面被磨細顆粒因表面能增大又極易
團聚在一起，形成“假顆粒”，“假顆粒”被粉碎后又團聚。因此在研磨進行到一定程度時，過程已處于團聚—磨細的動態(tài)平衡中，研磨效率大大降低。分散劑是濕法超細研磨中的重要調(diào)節(jié)因素。對于超細磨，添加一定量的分散劑以后，因與物料間的吸附作用，改變了顆粒間的相互依從狀態(tài)，使細顆粒物料保持分散狀態(tài)，分散劑并能吸附在物料表面降低表面能，改善漿料的流變性，使研磨效率提高。