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    碳納米管高剪切分散機

    產(chǎn)品型號: ERS2000
    品  牌: IKN
    • ≧1 臺
      ¥198567.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細信息
     品牌:IKN  類型:剪切分散機  物料類型:固-液  
     適用物料:化學品  應用領(lǐng)域:化工  型號:ERS2000  
     速度類別:有級變速  調(diào)速范圍:15000 r/min 分散輪直徑:115 mm 
     升降行程:1000 mm 電機功率:22 Kw 變速方式:變速帶變速  
     罐容量:1000 L 外形尺寸:1-1-1 mm 整機重量:200 kg 


    碳納米管研磨分散機,高剪切研磨分散機,碳納米管分散機,研磨分散機,
     碳納米管應用于導電涂料、導電油墨、導電膠、鋰離子電池電極材料及其它復合物中,開發(fā)了高碳納米管含量、高流動性的碳納米管漿料,是經(jīng)濟型的分散產(chǎn)品
     碳納米管漿料由多壁碳納米管、碳納米管分散劑、液體介質(zhì)等三種成分組成,經(jīng)過特定的機械研磨設備和分散工藝,規(guī)模化地生產(chǎn)。
        我們供貨的漿料,是以工業(yè)級多壁碳納米管TNIM8為原料,液體介質(zhì)包括:水、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、異丙醇(IPA)、乙酸丁酯.
     
    一、碳納米管分散技術(shù)三要素
    二、分散劑用量推薦
    三、碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述
    四、超聲波分散設備使用建議及分散實例
    五、研磨分散設備使用建議
    碳納米管分散技術(shù)三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設備
    1、分散介質(zhì)
    1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機溶劑,碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料
    2)本PPT文件介紹的碳納米管分散技術(shù),針對中、低粘度分散介質(zhì)
    2、分散劑
    1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)
    2)分散劑的用量,與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關(guān)
    3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠,推薦使用TNEDIS 
    3、分散設備
    1)超聲波分散設備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管,用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制
    2)研磨分散設備:適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管
    3)采用先研磨分散、后超聲波分散組合方法,可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管
    分散劑用量推薦
    1、碳納米管比表面積與分散劑用量
    我們試劑級碳納米管分為單壁管(外徑<2nm)和多壁管。多壁管根據(jù)外徑不同,分為TNM1(外徑<8nm)、 TNM2 (外徑8-15nm)、 TNM3 (外徑10-20nm)、 TNM5 (外徑20-30nm)、 TNM7 (外徑30-50nm)、 TNM8 (外徑>50nm)。隨著外徑的增加,碳納米管的比表面積減小

     

    碳納米管作為一維納米材料,重量輕,六邊形結(jié)構(gòu)連接完美,具有許多異常的力學、電學和化學性能。近些年隨著碳納米管及納米材料研究的深入其廣闊的應用前景也不斷地展現(xiàn)出來。

    碳納米管極輕,以分散在聚氨酯中為例,不易分散均勻,且在研磨的過程中對溫度的要求極高,常溫下為固體,需預熱。但是如果研磨分散的過程中,升溫太快,研磨的碳納米管、聚氨酯成品就是廢料,所以怎么既能讓這種特殊的物料研磨到需要的細度,又可以控制好溫度。

    IKN工程師推薦使用CMD2000系列研磨分散機,此設備為我們上海IKN獨有的。獨特的設計使物料被充分分散均勻,在設備運轉(zhuǎn)的過程通過加冷卻水對設備進行冷卻,由于是設備是夾套設計,冷卻水和物料并無直接接觸。所以,既可以讓物料研磨到需要的細度,又可以控制運轉(zhuǎn)過程的溫度,很好的滿足了客戶的要求。

    CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):

    研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

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    CMD2000系列研磨分散機的特點:

    ① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

    ② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

    ③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    ④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    ⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     

     實驗室研磨分散機應用領(lǐng)域:

    精細化工 顏料 染料 涂料 油漆 塑料 樹脂 油墨 糊料 漿料 熱熔膠 阻燃劑 膠粘劑 整理劑 表面活性劑 均染劑 防粘劑 消泡劑 光亮劑 橡膠助劑 塑料助劑 染料助劑 絮凝劑 混凝劑 表面活性劑 溶劑 硅油乳化 樹脂乳化 碳黑分散 
    石油化工 潤滑油 重油混合 重油乳化 油包水 包油水 柴油乳化 改性瀝青 乳化瀝青 催化劑 蠟乳化 
    農(nóng)藥化肥 化肥 農(nóng)藥乳化 農(nóng)藥助劑 農(nóng)藥中間體 藥乳油 殺蟲劑 除草劑 種衣劑 殺菌劑 植物激素 尿素 復合肥 乳油 濕性粉劑 
    生物醫(yī)藥 細胞漿化 血清疫苗 蛋白質(zhì)分散劑 藥乳膏 抗生素 糖衣 
    日用化工 護膚霜 護膚膏 洗滌劑 防腐劑 美發(fā)用品 牙膏 日用香精 BB霜,指甲油 發(fā)蠟 
    食品工業(yè) 食品添加劑 香精 香料 果汁 果醬 冰淇淋 乳制品 巧克力 
    涂料油墨 內(nèi)外墻涂料 乳膠漆 納米涂料 建筑膠 光固化涂料 油墨 墨水 碳黑 涂料助劑 釉 膨潤土 
    造紙工業(yè) 紙漿 膠黏劑 松香分散 碳酸鈣 填料助劑 顏料混合 樹脂乳化

    膠體磨

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    1000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    3000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    8000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    2000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    6000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到*大允許量的10%。

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