高速研磨機，納米高速研磨機，工業(yè)化高速研磨機,德國高速研磨機，研磨是干磨的一種安全而高效的替代方案。 

干磨產生大量灰塵，從而需要配備適當的過濾系統(tǒng)。當研磨其粉塵與大氣氧氣混合會產生爆炸性混合物的物質時，這一點尤其重要。達到規(guī)定的安全等級通常需要精心設計的技術解決方案，如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)。這些過濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實際研磨機的成本。 

用轉子-定子裝置濕磨此類物質具有諸多好處：

• 研磨得到的細顆粒被直接融合到懸浮液中，因而從開始就避免了灰塵的形成。
• 與干磨系統(tǒng)不同，被研磨的物質保持在系統(tǒng)內，從而大幅減少了損失。因此，濕磨非常適合有機化學品，尤其是優(yōu)質物質，或者有毒物質的研磨。
• 相對干磨過程而言，濕磨的產品進料和計量較容易。

濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應用中，并且取得了良好的效果，因為它非常適用于API（活性藥用成分）。 

IKN分散機可直接結合到物質合成過程中。這使得濕磨過程與其他過程同時進行，從而能夠刪除后續(xù)工步。除了節(jié)省時間以外，需要的系統(tǒng)數量和接觸產品的表面尺寸可大幅減少。管線式濕磨機非常適合于CIP或者SIP清潔。濕磨機的好處使其成為具有吸引力的投資產品。 
高速研磨機，納米高速研磨機，工業(yè)化高速研磨機,德國高速研磨機，研磨

粉碎研磨分散的本質是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹，近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是，在某一能量水平上， 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態(tài)的平衡。
 

IKN分體式研磨機通過皮帶傳送，可實現(xiàn)2到3倍的加速，同時立式直立的轉軸，運轉穩(wěn)定性大大提高，同時轉子動平衡性得到提高，間隙也允許縮小而不產生摩擦。因此立式膠體磨機有*好的乳化分散粉碎效果。根據其定轉子剪切的原理，還可以實現(xiàn)固體物料在液體介質中的粉碎，超細物料的均勻分散，以及加速大分子物質的溶解。經過特別設計的高剪切膠體磨 也可以成為反應發(fā)生的場所，比如兩種液體物料反應生成固體顆粒，通過分別通入腔體，兩種物料接觸時被剪切成微滴，均勻混合后反應生成的粒子大小均勻，并且粒徑很小。
 
IKN研磨機由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果
 
為了達到巨大的能量輸入，IKN采用提高定轉子轉速的方法。在電機固定三千轉的前提下，我們采用立式的結構通過皮帶加速達到15000轉。這很容易做到，但重要的是其它的部件能否能在高轉速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產生大量的熱而損毀泄露？主軸會不會偏振的很厲害，定轉子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關注點，也應該是廣大客戶在選型時應該重視的幾個方面。
 
 
IKN研磨機與國內研磨機比較：
轉速和剪切力：
國內研磨機，3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉速決定轉子轉速
線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨機，9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素，相當于后者是前者的4-5倍
設備設計構造：
國內研磨機，臥室直聯(lián)結構，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉不正常，需要*的人員拆開內部結構更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN研磨機，立式分體結構，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。
密封：
國內研磨機，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN研磨機，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時不停運轉，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以*大承受16bar 壓力，根據機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口*大壓力可以達到12-13 bar .
產品效果：
國內研磨機，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產品粒徑分布不均勻
IKN高剪切研磨機 可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎
 

是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

研磨分散機應用領域： 化學工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素，石墨烯，碳納米管，富勒烯，電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。           食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料 花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，食用菌絲，蛋白粉 ，豆粕酶解等 日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜，粉底 等。 醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，口服混懸液，注射混懸液 ，膠囊，微球 動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋，硫酸頭孢喹肟 等。 建筑工業(yè)：各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。 新能源材料：石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD 2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到*大允許量的10%。

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