控釋制劑：指藥物能在預定的時間內(nèi)自動以預定速度釋放，使血藥濃度長時間恒定維持在有效濃度范圍的制劑。廣義的講,控釋制劑包括控制藥物的速度、方向和時間，靶向之際、透皮吸收制劑均屬此列。
 

緩釋、控釋制劑的輔料：多為高分子化合物，主要有阻滯劑、骨架材料、增粘劑。

① 緩釋包衣材料。不溶性材料、腸溶材料：CAP、丙烯酸樹脂L、S型、羥丙甲纖維酞酸酯(HPMCP)、醋酸羥丙甲纖維素琥珀酸酯(HPMCAS)。

② 骨架材料：生物溶蝕性骨架材料(脂肪、蠟類)、親水膠體骨架材料(MC、CMC-Na、HPMC、PVP、卡波普、海藻酸鹽、脫乙酰殼聚糖)、非溶蝕性骨架材料(EC、聚甲基丙烯酸酯、無毒聚氯乙烯、聚乙烯、乙烯醋酸乙烯共聚物、硅橡膠)。

③ 增粘劑：延長液體藥劑的藥效。明膠、PVP、CMC、PVA、右旋糖苷。
 

   用擴散原理達到緩、控釋作用的方法：

① 包衣：小丸或片劑包衣、不包衣、包不同厚度的衣。

腸溶材料：利用其溶解特性使產(chǎn)生緩釋作用。如Eudragit L、S，L不溶于強酸但在含鹽的中性溶液中可溶，S在酸性、中性介質(zhì)中難溶，在堿性介質(zhì)中可溶。適當比例的L、S配合，可獲得在一定pH介質(zhì)中可溶的包衣材料，與增塑劑混合，用適當方法包衣可制成接近零級的的控釋制劑。

阻滯劑：疏水性高分子物質(zhì)，石蠟、高級脂肪酸、醇、單硬脂酸甘油酯，硬脂酸、鎂、鈣鹽、蟲膠。

② 制成微囊：微囊膜為半透膜，形成飽和溶液擴散。藥物釋放度的決定因素有囊膜的厚度、微孔的孔徑、微孔的彎曲度。

③ 制成不溶性骨架片：以不溶性塑料例如無毒聚氯乙烯、聚乙烯、聚乙烯乙酸酯、聚甲基丙烯酸酯、硅橡膠為骨架，適合水溶性藥物，藥物釋放度的決定因素有藥物的溶解度、骨架的孔率、孔徑和孔的彎曲度。

制備方法：藥物與塑料混合；濕法制粒；溶劑法制顆粒、壓片。

④ 增加粘度以減少擴散速度：主要用注射劑及其它液體制劑。如明膠用于肝素、CMC(1%)用于鹽酸普魯卡因注射液(3%)。

⑤ 制成植乳劑：將不溶性藥物熔融后倒入模型中形成，一般不加賦形劑。

⑥ 制成藥樹脂：陽離子交換樹脂與有機胺類、陰離子交換樹脂與有機羧酸鹽或磺酸鹽交換即成藥樹脂。作成膠囊、片劑。只有解離性藥物才適用于制成藥樹脂。交換容量有限，故大劑量藥物不易制成藥樹脂。

⑦ 制成乳劑：水溶性藥物可制成W/O型乳劑。水相→油相→體液。

IKN管線式高剪切膠體磨與臥式膠體磨比較：

轉速和剪切力：

XX膠體磨，3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉速決定轉子轉速

線速度：V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S

作用力：F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1

IKN高剪切膠體磨，9000/14000RPM通過皮帶加速

線速度：V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S

作用力：F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1

這是研磨粉碎的重要因素，相當于后者是前者的4-5倍

設備設計構造：

XX膠體磨，臥室直聯(lián)結構，運行時間長，容易造成軸的偏心，運轉不正常，需要*的人員拆開內(nèi)部結構更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸

IKN高剪切膠體磨，立式分體結構，運行時間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應的皮帶，一般的人員可以操作。

密封：

XX膠體磨，填料密封或骨架密封，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀

IKN膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至，可24小時不停運轉，特殊德國PDFE軸封，可以運行10000小時，可選擇德國高品質(zhì)機械密封，在一般的情況下，我們的機械密封可以承受16bar 壓力，根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口壓力可以達到12-13 bar .

產(chǎn)品效果：

XX膠體磨，粒徑細度有限，10微米以下較困難，重復性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻

IKN高剪切膠體磨，可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，納米級分散乳化粉碎

大腸桿菌細胞破碎后的液體中含蛋白質(zhì)40-70%，核酸10-30%，多糖2-10%，脂類10-15%。該液體之所以顯黏性是由細胞破碎后核酸釋放出來造成的。可以加入DNase來消化掉核酸污染。

IKN管線式高剪切研磨分散機是由IKN研發(fā)工程師于2013年研發(fā)的一款用于物料精細研磨，分散，乳化，均質(zhì)的高精度設備，高剪切研磨分散機結合了IKN高剪切膠體磨與IKN高剪切分散均質(zhì)乳化機的高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前XX設備轉速的4-5倍

下面簡單介紹一下IKN連續(xù)式膠體磨和臥式連續(xù)式膠體磨的對比：