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納米硅/石墨稀復合負極材料研磨分散機

產品型號：

CMSD2000

品牌：

IKN

≧1 臺
￥6089000.00

所在地：

上海松江區(qū)

更新日期：

2024-12-16

詳細信息

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型號：CMSD2000	品牌：IKN	工作方式：顆粒研磨機
適用物料：石墨烯	應用領域：化工	加工批量：0-3000
驅動功率：30 kw	研磨籃容量：1000	介質尺寸：1-1-1
行程：100	外形尺寸：1X1X2 m	重量：200 kg
驅動方式：電動	作用對象：鋸刀	重量：200 kg

納米娃/石墨稀復合負極材料研磨分散機。納米硅研磨分散機，石墨稀復合負極材料研磨分散機，納米二氧化硅分散液研磨分散機，氧化石墨烯片研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

現(xiàn)有負極材料中硅基材料的理論克容量可以達到4200mAh/g (Li22Si5)，且安全性好(鋰嵌入硅的電位低于〇 . 5V，不存在溶劑分子共嵌入問題），原材料儲量豐富，成本低，是 *具發(fā)展前景的鋰離子電池負極材料之一。但是在充放電過程中，硅會發(fā)生巨大的體積變化(100 %〜300 %)，導致材料粉化、剝落、失去電接觸，容量衰減很快，因此硅負極的研究主要集中在如何減小娃材料的體積效應，提尚其循環(huán)性能。

為了抑制硅體積膨脹，保證材料在充放電過程中的結構穩(wěn)定，保持硅材料顆粒之間、材料與電解質之間以及材料與集流體之間良好的電接觸。為此人們嘗試了多種方法，包括制備無定形娃薄膜、納米娃、多孔娃、娃氧化物、含娃非金屬化合物、含娃金屬化合物、娃/ 碳復合材料、硅/金屬(活性或惰性)復合材料等。嵌鋰時鋰離子快速通過硅晶粒邊界并與硅結合形成無定形鋰硅化合物，脫鋰時硅顆粒不會發(fā)生重結晶，不存在相變，局部體積可逆膨脹與收縮大大減小，從而提高了材料的循環(huán)性能。

(1) 以納米二氧化硅或硅酸鹽為硅源，通過陽離子表面活性劑修飾制備納米二氧化硅分散液，然后與氧化石墨烯溶膠混合，通過靜電自組裝實現(xiàn)納米二氧化硅在氧化石墨烯片層上均勻吸附，得到二氧化硅/氧化石墨烯復合材料或

(2) 將所述二氧化硅/氧化石墨烯復合材料或者硅酸鹽/氧化石墨烯復合材料干燥后于低溫下原位還原獲得納米硅/石墨烯復合材料，反應結束后進行酸洗；

(3) 在球形化設備中，將還原后的納米硅/石墨烯復合材料與一定量的石墨和碳源材料進行復合包覆，得到碳包覆的核殼結構的納米硅/石墨烯復合負極材料。

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研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出*終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

研磨分散機應用領域：

化學工業(yè)：油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦白粉,炭黑,纖維素，石墨烯，碳納米管，富勒烯，電池漿,壓裂液料,纖維,芳綸,氯綸,晴綸等。

食品工業(yè)：蘆薈、菠蘿、芝麻、果茶、冰淇淋、月餅餡、奶油、果醬、果汁、大豆、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品，麥乳精、香精、各種飲料花生醬、豆瓣醬、香菇醬、辣醬、醬蝦醬，食用菌絲，蛋白粉，豆粕酶解等
日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜CC霜，粉底等。
醫(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、營養(yǎng)液、中成藥、膏狀藥劑、生物制品、魚肝油、花粉、蜂皇漿、疫苗、各種藥膏、各種口服液、針劑、注射液,混懸注射液,脂肪乳,靜滴液,乳化豬皮，口服混懸液，注射混懸液，膠囊，微球動物組織破壁鹽酸頭孢噻呋，硫酸頭孢喹肟等。
建筑工業(yè)：各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
新能源材料：石墨烯、碳納米管、碳纖維、鋰電池漿料、電池隔膜潤滑油等等

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD 2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7,200	41	22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到大允許量的10%。