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    德國(guó)IKN乳化法、均質(zhì)法、微量沉淀法納米混懸劑剪切超高速乳化機(jī)ERS2000

    產(chǎn)品型號(hào): ERS2000
    品  牌: 德國(guó)IKN
    • ≧1 臺(tái)
      ¥238500.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細(xì)信息
     類(lèi)型:均質(zhì)乳化機(jī)  效果:高剪切乳化機(jī)  適用場(chǎng)所:工業(yè)生產(chǎn)用  
     適用物料:醫(yī)藥  型號(hào):ERS2000  料筒形狀:管道形  
     電機(jī)功率:11 kw 生產(chǎn)能力:300 升/小時(shí) 噪音:79 dB 
     主軸轉(zhuǎn)速:10500 r/min 固定方式:固定式  適用溫度:120 ℃ 
     品牌:德國(guó)IKN  固定方式:固定式  適用溫度:120 ℃ 

    乳化法、均質(zhì)法、微量沉淀法納米混懸劑剪切超高速乳化機(jī)是以表面活性劑為助懸劑,將藥物顆粒分散在水中,通過(guò)粉碎或者控制析晶技術(shù)形成的穩(wěn)定的納米膠態(tài)分散體。不論是難溶于水的藥物還是既難溶于水又難溶于油的藥物, 均可以通過(guò)納米技術(shù)制備得到相應(yīng)的納米混懸劑。

     

    與基質(zhì)骨架型納米體系的區(qū)別:納米混懸劑無(wú)需載體材料,它是通過(guò)表面活性劑的穩(wěn)定作用,將納米尺度的藥物粒子分散在水中形成的穩(wěn)定體系。具體聯(lián)系段工

     

    與普通混懸劑的區(qū)別:其藥物粒子的平均粒徑小于1μm,一般在200~500 nm之間。

    納米混懸劑具有許多優(yōu)點(diǎn):

    (1)提高藥物溶解度和溶出速率                        ——

    (2)與黏膜組織有好的粘附性                            ——

    (3)載藥量高,降低給藥體積,增加生物安全性

    (4)提高藥物制劑的穩(wěn)定性                                 ——

    (5)實(shí)現(xiàn)靶向給藥                                                  ——

    (6)適用范圍廣

    (7)制備方法多,工藝簡(jiǎn)單,可適用于大生產(chǎn)

      納米混懸劑處方中表面活性劑的主要作用在于充分潤(rùn)濕藥物粒子,通過(guò)形成靜電斥力和產(chǎn)生高能屏障,抑制結(jié)晶成長(zhǎng)。若處方中缺少合適的表面活性劑,具有高表面自由能的納米級(jí)藥物粒子將發(fā)生聚集甚至結(jié)塊。藥物與表面活性劑之間的比例根據(jù)具體藥物的性質(zhì)、濃度以及制備方法的不同而異,一般兩者比例在1:20~20:1 之內(nèi)。

     

    助表面活性劑

             當(dāng)用微乳法制備納米混懸劑時(shí),需要使用助表面活性劑。助表面活性劑對(duì)微乳的形成和穩(wěn)定以及載藥量有很大的影響,對(duì)其篩選的原則與制備微乳相同。

       

     

    (3)有機(jī)溶劑

             在采用乳化法、溶劑蒸發(fā)沉降法來(lái)制備納米混懸劑時(shí),應(yīng)盡量選擇易于除去且毒性低的有機(jī)溶劑。

     

    1)直接均質(zhì)法

    高壓均質(zhì)機(jī)造成的空化和氣穴效應(yīng),將微粉化的藥物顆粒進(jìn)一步粉碎為納米尺寸的粒子,同時(shí)降低藥物粒徑的多分散性。

     

    (3)微量沉淀法

    將難溶性藥物分散于溶劑( 通常為有機(jī)溶劑)中,在攪拌的同時(shí)將藥物溶液加入可混合的溶劑中去,這會(huì)造成局部驟然過(guò)飽和,使得藥物聚合體快速成核并沉淀。

    (4)乳化法

    將藥物首先制備成O /W 型納米乳,再控制藥物在乳滴中析出而制得納米混懸劑。

     

     

     

    影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

     

    1 乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

    2 乳化頭的剪切速率 (越大,效果越好)

    3 乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,chao細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

    4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

    5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不neng zai好)

     

    線(xiàn)速度的計(jì)算

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

    – 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    – 轉(zhuǎn)子的線(xiàn)速率

    – 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

    速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

     

       高速乳化機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得chao細(xì)微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)te殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出ERX2000chaoX速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以chao過(guò)200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以da到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度ji gao,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備,可以da到普通的高壓均質(zhì)機(jī)的400BAR壓力下的顆粒大小.

        高速乳化機(jī)是、kuai速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相(液體、固體)進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過(guò)程的設(shè)備的設(shè)備。當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度da到微米數(shù)量級(jí)時(shí),甚至納米級(jí)時(shí),體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí),兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子gao速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線(xiàn)速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來(lái)的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液(固/液),乳液(液體/液體)和泡沫(氣體/液體)。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下,shun間均勻精細(xì)的分散乳化,經(jīng)過(guò)高頻管線(xiàn)式高剪切分散均質(zhì)乳化機(jī)的循環(huán)往復(fù),#終得到穩(wěn)定的XX產(chǎn)品。

     

     

    標(biāo)準(zhǔn)流量(H2O)

    輸出轉(zhuǎn)速

    標(biāo)準(zhǔn)線(xiàn)速度

    馬達(dá)功率

    進(jìn)出口尺寸

    型號(hào)

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    ERX 2000/4

    300

    20000

    66

    5.5

    DN25/DN15

    ERX 2000/5

    1,500

    15,750

    66

    15

    DN40 /DN 32

    ERX 2000/10

    5,000

    10,950

    66

    30

    DN50 / DN50

    ERX 2000/20

    10,000

    7,300

    66

    55

    DN80 /DN 65

    ERX 2000/30

    30,000

    4,000

    66

    90

    DN150 /DN 125

    ERX 2000/50

    50,000

    3,000

    66

    160

    DN200 /DN 150

     

    1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

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