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碳納米管高速剪切研磨分散機 碳納米管研磨分散設備
詳細信息| 詢價留言型號:CMD2000 品牌:IKN 工作方式:高速萬能研磨機 適用物料:碳納米管 石墨烯 應用領域:鋰電池 加工批量:0-1000 驅(qū)動功率:2.2-37 kw 研磨籃容量:0-1000 介質(zhì)尺寸:20 行程:20 外形尺寸:0.45*0.35*0.75 m 重量:45 kg 驅(qū)動方式:電動 作用對象:磨頭定轉(zhuǎn)子 重量:45 kg
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一、碳納米管分散技術三要素 二、分散劑用量推薦 三、碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述 四、超聲波分散設備使用建議及分散實例 五、研磨分散設備使用建議
碳納米管分散技術三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設備
1、分散介質(zhì) (1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機溶劑,碳納米管易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。 (2)此處介紹的碳納米管分散技術,針對中、低粘度分散介質(zhì)。
2、分散劑 (1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關。 (2)分散劑的用量,與碳納米管比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關。 (3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠,推薦使用TNEDIS 。
3、分散設備 (1)超聲波分散設備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散碳納米管,用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制。 (2)研磨分散設備CMD2000系列:適合大規(guī)模地分散碳納米管、中粘度介質(zhì)分散碳納米管。 (3)采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法,可以高效、穩(wěn)定地分散碳納米管
分散劑用量推薦:
1、碳納米管比表面積與分散劑用量 我們試劑級碳納米管分為單壁管(外徑<2nm)和多壁管。多壁管根據(jù)外徑不同,分為TNM1(外徑50nm)。隨著外徑的增加,碳納米管的比表面積減小 TNWDIS推薦用量:單壁管重量的3.5倍, TNM1 重量的1.0倍, TNM8 重量的0.2倍。其余用量參考調(diào)整
2、碳納米管功能化與分散劑用量 功能化后的碳納米管,更容易在水中分散。 通常,碳納米管羧基功能化后,分散劑的用量可以減少50% TNWDIS推薦用量:羧基化單壁管重量的1.5-1.8倍, 羧基化TNM1 重量的0.5倍, 羧基化TNM8 重量的0.1倍
3、對于TNADIS, TNM8 的推薦用量是重量的0.2倍。對于TNEDIS, TNM8 的推薦用量是重量的0.8倍 其余碳納米管分散劑用量可以參照調(diào)整
碳納米管水分散劑(TNWDIS)概述
1、不含烷基酚聚氧乙烯醚 (APEO)的非離子表面活性劑,生態(tài)環(huán)保。歐洲國家自1976年起陸續(xù)制定了法規(guī)限制生產(chǎn)和使用APEO
2、含有芳香基團,特別適合制備碳納米管水分散液。芳香基團與碳納米管管壁親和性好,易于吸附在管壁
3、性能指標 活性物質(zhì)含量:90% 水 分 含 量:10% 濁 點:68-70℃ 碳納米管水分散劑(TNWDIS)結(jié)構(gòu)
磨分散設備使用建議
1. 制備1-2升碳納米管水分散液,可以選用實驗室研磨分散機,
2.制備10-20升碳納米管分散液,可以選用小型的研磨分散那
4.對中等粘度的分散介質(zhì),如液態(tài)環(huán)氧樹脂,砂磨機不能帶動介質(zhì)有效運動,可以選擇錐形磨或研磨分散機 碳納米管研磨分散機 研磨分散機工作原理:研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。 研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。
碳納米管研磨分散機研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 碳納米管研磨分散機*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 碳納米管研磨分散機第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。
碳納米管研磨分散機CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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