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    中藥混懸液膠體磨

    產(chǎn)品型號: CMD2000
    品  牌: 依肯
    • ≧1 臺
      ¥108900.00
    所 在 地: 上海松江區(qū)
    更新日期: 2024-12-16
    詳細信息
     品牌:依肯  型號:CMD2000  工作方式:離心研磨機  
     類型:轉(zhuǎn)軸式研磨機  適用物料:化工 食品 藥品 化妝品 乳品  應(yīng)用領(lǐng)域:化工 食品 藥品 化妝品 乳品  
     驅(qū)動功率:2.2-110 kw 研磨籃容量:0-1000 L 重量:55  

    中藥材細胞破壁研磨分散機,高剪切研磨分散機,細胞破壁研磨分散機,中藥材細胞破壁膠體磨,中藥材膠體磨,中藥材混懸液均質(zhì)機,中藥材高剪切膠體磨

     

     

     

     

    細胞破壁技術(shù)是一種超微粉劑加工技術(shù),對中藥臨床應(yīng)用是一場革命,中藥材細胞破壁超微粉碎后的藥效釋出,藥性變化,治療效果方面有質(zhì)的飛躍變化。一般人體細胞大小為10-100μm,中藥超微粉的顆粒細度為3-5μm,中藥材(植物及動物)的細胞尺度為10-100μm左右,F(xiàn)常用的中藥丸劑粉末細度為150-180μm.中藥材的有效成份通常分布于細胞內(nèi)與細胞間質(zhì),而以細胞內(nèi)為主。中藥若采用常規(guī)方式粉碎,其單個粒子常由數(shù)個或數(shù)十個細胞所組成,細胞的破壁率極低。

    細胞破壁的方法很多,按照是否存在外加作用力,可分為機械法和非機械法。

     詳情請聯(lián)系公司銷售工程師  聶倩文     QQ   ---

     

     

    分 類

    作 用 機 理

    適 應(yīng) 性

     

     

     

    珠磨法

    固體剪切作用

    可達較高破碎率,可較大規(guī)模操作,大分子目的產(chǎn)物易失活,漿液分離困難

    高壓勻漿法

    液體剪切作用

    可達較高破碎率,可大規(guī)模操作,不適合絲狀菌和革蘭氏陽性菌

    超聲破碎法

    液體剪切作用

    對酵母菌效果較差,破碎過程升溫劇烈,不適合大規(guī)模操作

    X-press法

    固體剪切作用

    破碎率高,活性保留率高,對冷凍敏感目的產(chǎn)物不適合

     

     

     

    酶溶法

    酶分解作用

    具有高度專一性,條件溫和,漿液易分離,溶酶價格高,通用性差

    化學(xué)滲透法

    改變細胞膜的滲透性

    具一定選擇性,漿液易分離,但釋放率較低,通用性差

    滲透壓法

    滲透壓劇烈改變

    破碎率較低,常與其他方法結(jié)合使用

    凍結(jié)融化法

    反復(fù)凍結(jié)-融化

    破碎率較低,不適合對冷凍敏感目的產(chǎn)物

    干燥法

    改變細胞膜滲透性

    條件變化劇烈,易引起大分子物質(zhì)失活

     

    如果采用高剪切研磨分散機來粉碎,中藥材細胞的破壁率將大大提高。

    CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

    CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):

    研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品?梢韵葘⒅兴幉南妊心,研磨細化后再通過分散頭,進行分散,這樣可以避免細胞細化后抱團現(xiàn)象,從而提高細胞的破壁率。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。(齒列的深度:從開始的2.7mm,到末端的0.7mm)

     

    (價格電議,咨詢請聯(lián)系,聶倩文     QQ   ---,公司有樣機供客戶購前實驗)

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

     

    CMD2000系列設(shè)備選型表

    型號

    流量

    L/H

    轉(zhuǎn)速

    rpm

    線速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口連接

    DN

    CMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150


    (詳情請接洽上海依肯,包先生,手機,電話)

    CMD2000系列研磨分散機的特點:

     

    ① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

    ② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

    ③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    ④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    ⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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